Ion500D 是維開科技開發的一款通用型離子束沉積系統，功能強大，穩定可靠，自動化控制程度高，維護簡單，可以滿足中小批量生產需求和實驗平臺的一般性需求。

§ 不銹鋼真空腔：500mm（寬）*500mm（高）

§ 鍍膜均勻區：最大?150mm

§ 鍍膜均勻性：±5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫：-80℃至500℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質量流量計

§ 占地面積：1.5m（長）*1.8m（寬）*2.1m（高）

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