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Ion500D離子束沉積系統

Ion500D 是維開科技開發的一款通用型離子束沉積系統,功能強大,穩定可靠,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足中小批量生產需求和實驗平臺的一般性需求。


§ 不銹鋼真空腔:500mm(寬)*500mm(高)

§ 鍍膜均勻區:最大?150mm

§ 鍍膜均勻性:±5%

§ 極限真空度:1E-5Pa

§ 工件盤控溫:-80500

§ 偏壓:射頻/脈沖直流

§ 離子源:可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制:數字式質量流量計

§ 占地面積:1.5m(長)*1.8m(寬)*2.1m(高)


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