E1100D是維開科技開發的一款生產型電子束蒸發系統，鍍膜面積大，工作穩定，自動化控制程度高，維護簡單，可以滿足大批量生產需求和大尺寸工件蒸發鍍膜的需求。

§ 不銹鋼真空腔：800mm（寬）*820mm（高）

§ 均勻可鍍區：最大8*?250mm

§ 鍍膜均勻性：±2%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫：室溫至350℃

§ 電子槍功率：最大10千瓦

§ 坩堝數量：最多8個

§ 電阻蒸發源：可選配

§ 離子源：直流/射頻

§ 膜厚監控：晶振控制器

§ 掛具類型：穹頂式/行星式/平盤/克努曾/自動翻轉

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 真空檢測：全量程真空規

§ 占地面積：1.8m（長）*2.0m（寬）*2.2m（高）

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