V550 反應濺射系統是維開科技開發的一款離子源增強型反應濺射系統，可靈活編輯工藝，反應程度高，膜層損傷小，自動化控制程度高，維護簡單，可以滿足企業和研究所研發小批量生產需求，并可選配多片自動進樣室，有效提高生產和研發效率。

§ 不銹鋼真空腔： 550mm（寬）*550mm（高）

§ 均勻可鍍區：最大?200mm

§ 鍍膜均勻性：±1%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫： -50℃至800℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍：最多4個

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進樣室：可選配全自動進樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質量流量計

§ 占地面積：2.2m（長）*1.8m（寬）*2.1m（高）

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