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V550 反應濺射系統是維開科技開發的一款離子源增強型反應濺射系統,可靈活編輯工藝,反應程度高,膜層損傷小,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足企業和研究所研發小批量生產需求,并可選配多片自動進樣室,有效提高生產和研發效率。 § 不銹鋼真空腔: 550mm(寬)*550mm(高) § 均勻可鍍區:最大?200mm § 鍍膜均勻性:±1% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫: -50℃至800℃ § 偏壓:射頻/脈沖直流 § 濺射靶槍:最多4個 § 濺射電源:直流/射頻/脈沖直流,可自由切換 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 進樣室:可選配全自動進樣室 § 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規 § 流量控制:數字式質量流量計 § 占地面積:2.2m(長)*1.8m(寬)*2.1m(高) 如需詳細信息,敬請 聯系我們 |