我們相信只有通過掌握物理氣相沉積領域關鍵性的核心技術，才能更好的開發各類PVD設備和工藝。

經過多年的技術積累，維開科技目前掌握多項基礎性關鍵核心PVD相關技術，可獨立研發制造各類真空鍍膜系統及關鍵零部件，從而可真正實現根據每一位客戶獨特的需要提供最合適的PVD設備和工藝。

§ 離子源：　　　　各種口徑4寸至8寸霍爾源，射頻源和考夫曼源

§ 普通濺射靶槍：　直徑2寸至12寸圓形濺射靶槍陰極

§ 旋轉磁鐵靶槍：　直徑6寸至12寸旋轉磁控靶槍陰極

§ 矩形靶槍：　　　長度500毫米至1200毫米矩形靶槍陰極

§ 鍍膜源：　　　　用于沉積特殊材料如銦(In)、 ZnS 等的專用鍍膜源

§ 自動機械臂：　　多款手動/自動機械臂

§ 控溫工件臺：       多款水冷/液冷/加熱工件臺

§ 工裝掛具：　　　適用于不同工藝需求的二十余種工件臺及掛具

§ 工件盤控溫：       可提供-50℃至1200℃控溫的各類工件臺

§ 電源:　　 　 　　直流/脈沖直流電源，離子源電源

§ 控制系統：　　　針對真空鍍膜應用開發的VKOS全自動控制系統

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