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C500是維開科技開發的一款生產型多腔室集成系統,功能強大,可擴展性強,穩定可靠,自動化控制程度高,可以滿足半導體級別的批量生產需求。 § 真空工藝腔:6個獨立工藝腔室 § 真空進樣室:2個獨立樣品進樣腔室 § 工藝條件:磁控濺射/刻蝕/離子束/蒸發可選 § 均勻鍍膜區: ?300mm § 均勻刻蝕區: ?250mm § 鍍膜/刻蝕均勻性:±5% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫: -50℃至800℃ § 自動進樣室:集成BROOKS系統 § 離子源:可選配直流/射頻離子源 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規 § 流量控制:數字式質量流量計 § 占地面積:3.5m(長)*3.5m(寬)*1.7m(高)
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