C500是維開科技開發的一款生產型多腔室集成系統，功能強大，可擴展性強，穩定可靠，自動化控制程度高，可以滿足半導體級別的批量生產需求。

§ 真空工藝腔：6個獨立工藝腔室

§ 真空進樣室：2個獨立樣品進樣腔室

§ 工藝條件：磁控濺射/刻蝕/離子束/蒸發可選

§ 均勻鍍膜區： ?300mm

§ 均勻刻蝕區： ?250mm

§ 鍍膜/刻蝕均勻性：±5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫： -50℃至800℃

§ 自動進樣室：集成BROOKS系統

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質量流量計

§ 占地面積：3.5m（長）*3.5m（寬）*1.7m（高）

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