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Ion500E 是維開科技開發的一款通用型離子束刻蝕系統,功能強大,穩定可靠,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足中小批量生產需求和實驗平臺的一般性需求。 § 不銹鋼真空腔:500mm(寬)*500mm(高) § 均勻刻蝕區:最大?150mm § 刻蝕均勻性:±5% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫:室溫至500℃ § 偏壓:射頻/脈沖直流 § 離子源:可選配直流/射頻離子源 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規 § 流量控制:數字式質量流量計 § 占地面積:1.5m(長)*1.8m(寬)*2.1m(高) 如需詳細信息,敬請 聯系我們 |