|
T550I是維開科技為高質量的銦柱沉積工藝開發的一款專用電阻蒸發系統,功能強大,穩定可靠,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足專業的銦柱沉積工藝需求。 § 不銹鋼真空腔:550mm(寬)*950mm(高) § 均勻可鍍區:最大?200mm § 鍍膜均勻性:±3% § 極限真空度:1E-5Pa § 電阻源功率:最大8千瓦 § 坩堝數量:最多2個 § 離子源:可選配 § 膜厚監控:晶振控制器 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 真空檢測:全量程真空規 § 占地面積:1.5m(長)*1.5m(寬)*2.2m(高)
如需詳細信息,敬請 聯系我們 |