T550I是維開科技為高質量的銦柱沉積工藝開發的一款專用電阻蒸發系統，功能強大，穩定可靠，自動化控制程度高，維護簡單，可以滿足專業的銦柱沉積工藝需求。

§ 不銹鋼真空腔：550mm（寬）*950mm（高）

§ 均勻可鍍區：最大?200mm

§ 鍍膜均勻性：±3%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 電阻源功率：最大8千瓦

§ 坩堝數量：最多2個

§ 離子源：可選配

§ 膜厚監控：晶振控制器

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 真空檢測：全量程真空規

§ 占地面積：1.5m（長）*1.5m（寬）*2.2m（高）

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