E500D是維開科技開發的一款研發型電子束蒸發系統，上下兩個爐腔，互為進樣室，有效解決蒸發設備不易配進樣室的問題，可以滿足中小批量生產需求和實驗平臺的一般性需求。

§ 不銹鋼真空腔：兩個500mm（寬）*500mm（高）的真空腔

§ 均勻可鍍區：最大?200mm

§ 鍍膜均勻性：±2%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫： -50℃至800℃

§ 電子槍功率：最大10千瓦

§ 坩堝數量：最多6個

§ 電阻蒸發源：可選配

§ 膜厚監控：晶振控制器

§ 掛具類型：穹頂式/行星式/平盤/克努曾

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 工件角度：-45°至+45°可調

§ 真空檢測：全量程真空規

§ 占地面積：1.5m（長）*1.5m（寬）*2.2m（高）

　如需詳細信息，敬請　聯系我們