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E500D是維開科技開發的一款研發型電子束蒸發系統,上下兩個爐腔,互為進樣室,有效解決蒸發設備不易配進樣室的問題,可以滿足中小批量生產需求和實驗平臺的一般性需求。 § 不銹鋼真空腔:兩個500mm(寬)*500mm(高)的真空腔 § 均勻可鍍區:最大?200mm § 鍍膜均勻性:±2% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫: -50℃至800℃ § 電子槍功率:最大10千瓦 § 坩堝數量:最多6個 § 電阻蒸發源:可選配 § 膜厚監控:晶振控制器 § 掛具類型:穹頂式/行星式/平盤/克努曾 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 工件角度:-45°至+45°可調 § 真空檢測:全量程真空規 § 占地面積:1.5m(長)*1.5m(寬)*2.2m(高)
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