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M600 通用型磁控濺射系統

M600 是維開科技開發的一款通用型磁控濺射系統,功能強大,穩定可靠,自動化控制程度高,維護簡單,可廣泛滿足生產和研發中對磁控濺射的工藝需求。


§ 不銹鋼真空腔:600mm(寬)*550mm(高)

§ 均勻可鍍區:最大?300mm

§ 鍍膜均勻性:±2%

§ 極限真空度:9E-6Pa

§ 工件盤控溫: -50℃至800

§ 偏壓:射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍:最多5

§ 濺射電源:直流/射頻/脈沖直流,可自由切換

§ 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進樣室:可選配全自動進樣室

§ 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制:數字式質量流量計

§ 占地面積:1.8m(長)*1.8m(寬)*2.2m(高)


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