I2000 是維開科技開發的一款鏈式生產型磁控濺射系統，鍍膜面積大，工作穩定，自動化控制程度高，維護簡單，可以滿足大批量生產需求和大尺寸工件濺射鍍膜的需求。

§ 不銹鋼真空腔：2200mm（長）*950mm（寬）*200mm（高）

§ 均勻可鍍區：600mm（長）*600mm（寬）

§ 鍍膜均勻性：±5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫：室溫至350℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍：最多5個

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進樣室：可選配全自動進樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質量流量計

§ 占地面積：2.5m（長）*1.5m（寬）*1.7m（高）

如需詳細信息，敬請　聯系我們