|
I2000 是維開科技開發的一款鏈式生產型磁控濺射系統,鍍膜面積大,工作穩定,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足大批量生產需求和大尺寸工件濺射鍍膜的需求。 § 不銹鋼真空腔:2200mm(長)*950mm(寬)*200mm(高) § 均勻可鍍區:600mm(長)*600mm(寬) § 鍍膜均勻性:±5% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫:室溫至350℃ § 偏壓:射頻/脈沖直流 § 濺射靶槍:最多5個 § 濺射電源:直流/射頻/脈沖直流,可自由切換 § 離子源:可選配直流/射頻離子源 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 進樣室:可選配全自動進樣室 § 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規 § 流量控制:數字式質量流量計 § 占地面積:2.5m(長)*1.5m(寬)*1.7m(高)
如需詳細信息,敬請 聯系我們
|