北京維開科技有限公司 Beijing Vikaitech Ltd.

品質 誠信 創新

I2000鏈式生產型磁控濺射系統

I2000 是維開科技開發的一款鏈式生產型磁控濺射系統,鍍膜面積大,工作穩定,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足大批量生產需求和大尺寸工件濺射鍍膜的需求。


§ 不銹鋼真空腔:2200mm(長)*950mm(寬)*200mm(高)

§ 均勻可鍍區:600mm(長)*600mm(寬)

§ 鍍膜均勻性:±5%

§ 極限真空度:1E-5Pa

§ 工件盤控溫:室溫至350

§ 偏壓:射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍:最多5

§ 濺射電源:直流/射頻/脈沖直流,可自由切換

§ 離子源:可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進樣室:可選配全自動進樣室

§ 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制:數字式質量流量計

§ 占地面積:2.5m(長)*1.5m(寬)*1.7m(高)


如需詳細信息,敬請 聯系我們


北京維開科技有限公司
Beijing Vikaitech Ltd.

電話:13811935627
座機:010-60400380
網址:www.myonlineessaywriter.com
郵箱:sales@vikaitech.com
地址:北京市順義區彩園路6號5棟
郵編:101300

京公網安備 11011302002087號