M800是維開科技開發的一款高精度型磁控濺射系統，鍍膜均勻性高，維護簡單，可以滿足批量生產需求和實驗室對高精度/反應型磁控濺射工藝的需求。

§ 不銹鋼真空腔：800mm（寬）*550mm（高）

§ 均勻可鍍區： 5*?300mm

§ 鍍膜均勻性：±0.5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤控溫：室溫至350℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍：最多6個

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進樣室：可選配全自動進樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質量流量計

§ 占地面積：1.8m（長）*2m（寬）*2.2m（高）

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