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M1100 是維開科技開發的一款大尺寸生產型磁控濺射系統,功能強大,穩定可靠,自動化控制程度高,維護簡單,可以滿足大尺寸樣品或大批量生產需求和實驗平臺的特殊需求。 § 不銹鋼真空腔:1100mm(寬)*750mm(高) § 均勻可鍍區:最大?900mm § 鍍膜均勻性:±2% § 極限真空度:1E-5Pa § 工件盤控溫: 室溫至300℃ § 偏壓:射頻/脈沖直流 § 濺射靶槍:最多5個 § 濺射電源:直流/射頻/脈沖直流,可自由切換 § 離子源:可選配直流/射頻離子源 § 抽氣系統:低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵 § 真空檢測:全量程真空規+薄膜真空規 § 流量控制:數字式質量流量計 § 占地面積:2.5m(長)*2.8m(寬)*2.8m(高)
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