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![]() 原理: 濺射鍍膜就是在真空環境中利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。在磁控濺射中,荷能粒子一般利用低壓惰性氣體輝光放電來產生,磁場提供的洛侖茲力會使等離子體密度增大,從而提高陰極靶的濺射速率。 優勢:
用途: 主要應用在半導體、微電子、航空航天、激光器、紅外、光學、裝飾等領域。 我們的磁控濺射系統: 維開可以為不同領域的客戶提供多種磁控濺射產品,以濺射方式可以分為共焦濺射和垂直濺射兩類。 共焦濺射的優勢:
垂直濺射的優勢:
維開還可以根據客戶不同應用,提供多腔室集成磁控濺射系統、滾筒式磁控濺射系統和鏈式磁控濺射系統。 |